【摘要】:诺沃肖洛夫和海姆在2004年发明了微机械剥离法,即著名的透明胶带法,即用胶带从石墨晶体上分离出石墨烯。随后,使用胶带多次剥离高定向热解石墨样品,由于丙酮能溶解光刻胶,所以可用丙酮分离剩留在光刻胶上的薄片。不同科学家根据特定的要求对这一剥离过程进行了多次改进。这种方法能够成功剥离出单层、双层或数层优质石墨烯。
诺沃肖洛夫和海姆在2004年发明了微机械剥离法,即著名的透明胶带法,即用胶带从石墨晶体上分离出石墨烯。在第一次剥离过程中,石墨烯多层被从石墨上分离。为了获得单层、双层或少层石墨烯,需用胶带对石墨烯进行多次分离。最后,将胶带附着于基底,使用丙酮等溶剂溶解去除胶水。
过程:诺沃肖洛夫等首先准备好5μm厚的方形高定向热解石墨(HOPG),大小为2~20mm不等,然后在玻璃基底上用旋转涂布平铺一层1mm厚的光刻胶。接着将高定向热解石墨(HOPG)块叠加在光刻胶层上,经过加热或烘烤,直到高定向热解石墨块黏附于玻璃层上。
随后,使用胶带多次剥离高定向热解石墨样品,由于丙酮能溶解光刻胶,所以可用丙酮分离剩留在光刻胶上的薄片。
硅片[厚度为300nm的二氧化硅(SiO2)]可用作负载石墨烯的基底。在使用之前,硅片需用水进行彻底的冲洗,然后浸泡于丙醇中清洗并进行超声处理,然后将清洁后的硅片浸泡于溶液中。硅片表面会捕捉石墨烯片,然后将硅片放入丙醇中进行超声处理,去除硅片上附着的石墨烯片。但由于范德华引力和/或毛细作用力,处理之后,有些石墨烯薄片仍会附着在二氧化硅上。(www.daowen.com)
不同科学家根据特定的要求对这一剥离过程进行了多次改进。然而,诺沃肖洛夫等最初进行的实验过程依然是公认的标准程序。这种方法能够成功剥离出单层、双层或数层优质石墨烯。
微机械剥离法量产石墨烯所面临的挑战:虽然通过这种方法得到的石墨烯质量上乘,几乎没有缺陷,但是石墨烯的厚度和大小却难以控制,不同的人制备出的石墨烯的大小差异很大(从几纳米到几微米)。
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