洁净室亦称为无尘室或清净室。它是污染控制的基础,没有洁净室,污染敏感零件不可能批量生产。在FED-STD-2里面,洁净室被定义为具备空气过滤、分配、优化、构造材料和装置的房间,其中以特定的规则的操作程序控制空气悬浮微粒浓度,从而达到适当的微粒洁净度级别。

洁净室是指将一定空间范围内空气中的微粒子、有害空气、细菌等污染物排除,并将室内温度、洁净度、室内压力、气流速度与气流分布、噪音振动及照明、静电控制在某一需求范围内,而所给予特别设计的房间。亦即不论外在空气条件如何变化,其室内均能具有维持原先所设定要求的洁净度,温、湿度及压力等性能特性。

洁净室最主要的作用在于控制产品(如硅芯片等)所接触大气的洁净度及温、湿度,使产品能在一个良好的环境空间中生产、制造,此空间我们称为洁净室。按照国际惯例,无尘净化级别主要根据每立方米空气中粒子直径大于划分标准的粒子数量来规定,也就是说所谓无尘并非100%没有一点灰尘,而是控制在一个非常微量的单位上。当然这个标准中符合灰尘标准的颗粒相对于我们常见的灰尘已经是小的微乎其微,但是对于光学构造而言,哪怕是一点点的灰尘都会产生非常大的负面影响,所以在光学构造产品的生产上,无尘是必然的要求。

将小于0.3μm/m³粒径的微尘数量控制在3500个以下,就达到了国际无尘标准的A级。目前应用在芯片级生产加工的无尘标准对于灰尘的要求高于A级,这样的高标准主要被应用在一些等级较高芯片的生产上。5μm及以下的微尘数量被严格控制在1000个/m³以内,这也就是业内俗称的1K级别。

洁净室状态分为以下3种：(www.daowen.com)

1)空态：已经建造完成并可以投入使用的洁净室(设施)。它具备所有有关的服务和功能,但是在设施内没有操作人员操作的设备。

2)静态：各种功能完备、设定安装妥当,可以按照设定使用或正在使用的洁净室(设施),但是设施内没有操作人员。

3)动态：处于正常使用的洁净室,服务功能完善,有设备和人员。如果需要,可从事正常的工作。