课程思政——细节决定成败！

天下大事，必作于细。古语言：“泰山不拒细壤，故能成其高；江河不择细流，故能成其深”。不管多么大的事，其实都是由一个又一个小小的细节组成的，细节决定任何事情的成败。习总书记指出：“新时代的中国青年要以实现中华民族伟大复兴为己任，增强做中国人的志气、骨气、底气，不负时代，不负韶华，不负党和人民的殷切期望！”（摘自2021年7月1日新华网）我们把每一件简单的事做好，就是不简单！把每一件平凡的事做好，就是不平凡！就是为国家做出了伟大贡献！

模块导读

硅片（裸晶圆）在进行光刻前，其工艺面需成膜，膜可保护和钝化半导体表面，作为杂质选择扩散的掩蔽层，用于电极引线和其下面硅器件之间的绝缘，用作MOS电容和MOS器件栅极的介电层等。将经过严格清洗的硅片表面处于高温的氧化气氛（干氧、湿氧、水汽）中时，由于硅片表面对氧原子具有很高的亲和力，所以硅表面与氧迅速形成SiO2层，在硅片表面生长一层SiO2膜。淀积也叫薄膜淀积，是指在Wafer上淀积一层膜的工艺，采用一定方法，使处于某种状态的一种或几种物质（原材料）的基团以物理或化学方式附着于衬底材料表面，在衬底材料表面形成一层新的薄膜。本模块任务一介绍（硅热）氧化工艺，重点介绍热氧化成膜工艺，任务二重点介绍淀积、CVD、PVD成膜工艺。

模块学习目标

（1）了解氧化膜作用，理解硅消耗与硅生长。(www.daowen.com)

（2）掌握薄膜淀积（Thin Film Deposition）工艺。

（3）掌握化学气相沉积法（CVD）工艺。

（4）掌握物理气相沉积法（PVD）工艺。

（5）了解氧化膜厚度的检测。