在电解过程中，用激光束照射阴极，可极大地改善激光照射区的电沉积特性。激光增强电沉积，可迅速提高沉积速度而不发生遮蔽效应，能改善电镀层的显微结构，可望在选择性电镀、高速电镀和激光辅助刻蚀中获得应用。例如，在选择性电镀中，一种被称为激光诱导化学沉积的方法尤其引人入目，即使不施加槽电压，对浸在电解液中的某些导体或有机物进行激光照射，也可选择性地沉积Pt、Au或Pt-Ni合金，具有无掩膜、高精度、高速率的特点，可用于微电子电路和金属电路的修复等高新技术领域。在高速电镀中，当激光照射到与之截面积相当的阴极面上，不仅其沉积速率可提高10³～10⁴倍，而且沉积层结晶细致，表面平整。

成都表面装饰应用研究所采用图13-5所示的一种激光电镀实验装置，研究了在高强度CO₂激光束照射下（图中为背向照射阴极，也可以正向照射阴极），瓦特镍Ni/Ni⁺电极体系电沉积镍层的性质及其变化规律。研究表明，激光照射能提高阴极极化效果。虽然激光电沉积镍层为微裂纹结构，但与基体结合力高，在一定的光照时间内，可获得结晶细致、表面平整的镀镍层。这类装置也可用来电镀Cu、Au等金属，并取得了良好的效果。

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图13-5 激光电镀实验装置