通过对专利中所蕴含技术信息的提取与分析，由面域、线域到点域，逐步缩小NDI潜在技术机会分析区域，最终识别NDI技术机会。此过程可概括为如下几个步骤[161]（参照图4.3）。

（1）选择当前市场中处于成熟期的产品为研究对象[75，162]，确定技术主题，选择专利数据库并检索相关专利。通常情况下，技术主题涉及一个产品或一项技术，通常产品涉及多样的描述形式，因此首先通过网络检索相关信息，最终确定专利的分析主题。根据设计要求，检索及初步筛选技术主题下的相关专利。

（2）通过对专利的技术构成进行分析结果划分技术研究区域，选择技术研究相对稀疏区域作为NDI技术机会搜索区域，缩小NDI技术机会搜索范围，即确定NDI技术机会分析面域。

（3）建立技术装置与功能间的对应关系，通过对技术区域划分、IPC分类、各IPC分类所涉及的技术装置、技术装置与功能间对应关系的综合分析，计算各项功能所对应的虚拟专利数量，专利数量反映了各项功能的相关研究密集程度；通过对功能相关研究密集度的对比分析，确定产品的非主流功能。非主流功能的识别将NDI技术机会分析区域缩小至线域。(www.daowen.com)

（4）通过提取专利中所蕴含的技术信息建立非主流功能的技术—性能矩阵，确定某技术装置在各相关性能指标下的专利数量，从而获知目前的技术研究空白点及稀疏点，即为NDI潜在技术机会挖掘的技术点。

（5）新市场破坏性创新技术机会的识别。非主流功能的技术—性能矩阵所确定的技术研究空白点及稀疏点为NDI技术机会识别的突破口，技术研究空白点及稀疏点是NDI技术机会挖掘的区域，但不是挖掘出的所有技术机会均为NDI技术机会。根据破坏性创新产品具有易操作、结构简单、体积小、节省能源等特征，最终识别出NDI技术机会。

图4.3　基于专利分析的NDI技术机会识别过程模型